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按使用的原材料材質不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量較大的PVD 鍍膜材料。
無論是眼鏡還是鏡頭，都希望能讓所需要波長的光（即某些顏色的光）盡可能多地透射過去。但是，當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），手機配件IP電鍍加工，大約有5% 會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。
這些膜叫“增透膜”，大朗手機配件IP電鍍，顧名思義可以提高某些波長的光的透射。
接下來說一下為什么鍍了膜能增加透射；詳細說來，各種鍍膜的顏色不同主要取決于厚度。
在鍍膜的上下表面都會發(fā)生反射，這樣兩束光相遇的時候，其光程差
其中n0是膜的折射率，d是膜的厚度。
真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊亞氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業(yè)設備，多用磁場靜止靶源。
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